Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.

المنتجات

المنزل /

المنتجات

فرن التشتت الصناعي للسيليكون 1800C

تفاصيل المنتج

مكان المنشأ: الصين

اسم العلامة التجارية: Jingtan

إصدار الشهادات: CE

شروط الدفع والشحن

الحد الأدنى لكمية: 1 مجموعة

الأسعار: USD10,000-80,000/SET

تفاصيل التغليف: التعبئة حالة خشبية

وقت التسليم: 60 يوما

شروط الدفع: L/C/T/T.

القدرة على العرض: 30 قطعة / قطع لكل ربع

احصل على أفضل سعر

اتصل الآن

المواصفات

الوصف

المواصفات

إبراز:

الوصف

فرن التشتت الصناعي للسيليكون 1800C

المواصفات

استخدام:

يتم استخدام فرن اختراق السيليكون بشكل رئيسي لسرماسيات اختراق السيليكون في المرحلة السائلة من المركبات الكربونية الكربونية والتركيبات السيراميكية المصفوفة.تستخدم هذه العملية بشكل رئيسي لإحداث الانتشار بين جزيئات المسحوق عن طريق إضافة مرحلة صهر أو سائل لتحقيق الغليان والربط للجزيئاتلديها مجموعة واسعة من التطبيقات في مجالات المعادن والسيراميك والمواد المركبة.

المعالجة:

High-temperature silicone penetration furnace makes silicon form a silicide film on the metal surface by contacting the liquid containing silicon element with the surface of the metal material at high temperatureهذه العملية تسمى السيليكوزس. خلال عملية اختراق السيليكون، فإن عنصر السيليكون سوف ينتشر من الاختراق إلى سطح المادة المعدنية من خلال الانتشار،ومن ثم يجمع مع ذرات المعدن لتشكيل السيليسيدهذا الفيلم السيليكيد يحسن صلابة السطح ومقاومة الارتداء ومقاومة التآكل للمادة المعدنية.

الخصائص:

الشكل الهيكلي هو أفقي - باب واحد / باب مزدوج ؛ عمودي - تصريف أعلى / تصريف أسفل. فرن عمودي ، هيكل فرن مزدوج الطبقات ، تصميم سترة مبردة بالماء.جسم التسخين في غرفة الفرن من أنابيب الكربون الجرافيتية، طبقة العزل ، قياس درجة الحرارة ، المزدوج الحراري المراقبة والمكونات الأخرى. يتم تثبيت قرص التفريغ والتحميل في الجزء السفلي من الفرن عن طريق رفع محرك ،والتي هي ملائمة للتفريغ والتحميل. PLC بالإضافة إلى وضع تشغيل الشاشة اللمسية، مع وظيفة الإنذار، برنامج الأتمتة عالية، آمنة وموثوقة.

النموذج

SGL-0690

SGL-1015

SGL-1220

SGL-1530

SGL-0610

SGL-1120

SGL-1320

SGL-1520

حجم العمل ((ملم)

600*600*900

1000*1000*1500

1200*1200*2000

1500*1500*3000

600*1000

1100*2000

1300*2000

1500*2000

درجة الحرارة النهائية°C)

1800

^{توحيد درجة الحرارة ((°C)}

±5

±75

±10

± 15

±7.5/±10

±10/±15

± 15 / ± 20

الفراغ النهائي ((Pa)

معدل ارتفاع الضغط ((Pa/h)

0.67

طريقة التدفئة

المقاومة

المقاومة/التحفيز

الغلاف الجوي لمعالجة

الفراغ/النيتروجين/الهيدروجين

ملف الشركة

فلسفة شركتنا:

نحن لسنا موردك، ولكن شركاءك وتزويد حلول فرن المعالجة الحرارية بأكملها مع فريق البحث والتنمية القوي، سلسلة التوريد المستقرة مع 14+ سنوات من الخبرة تحت الصارمة ISO9001:نظام إدارة الجودة لعام 2015.

مكتب الملكية الفكرية للدولة في جمهورية الصين الشعبية (SIPO) ، وفقا لقانون براءات الاختراع في جمهورية الصين الشعبية، فحص ومنح حقوق براءات الاختراع لدينا: